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氮化鎵(GaN)功率器件憑借低寄生電容、高開關速度與優(yōu)異熱性能,正廣泛應用于高頻DC-DC轉換器、數據中心電源與D類放大器等高效率系統(tǒng)中。然而,其對PCB布局極為敏感,尤其在高di/dt和dv/dt條件下,寄生參數易引發(fā)振鈴、EMI問題甚至器件損壞。ADI推出的100V半橋GaN驅動器LT8418集成了分離式柵極驅動、智能自舉開關與高驅動能力,專為應對高速GaN應用挑戰(zhàn)而設計。要充分發(fā)揮其性能,必須遵循嚴格的PCB設計規(guī)范。
1. 最小化寄生電感是關鍵
GaN轉換器的振鈴主要源于功率環(huán)路與柵極環(huán)路中的寄生電感。功率環(huán)路電感(包括FET漏極電感LD、共源電感LCS及走線電感)會導致開關節(jié)點電壓過沖,增加開關損耗與EMI。柵極環(huán)路電感則引發(fā)柵極信號振鈴,可能造成誤導通或超過±6V柵極絕對最大額定值,導致永久性損傷。因此,降低兩類環(huán)路電感是設計核心。
2. 采用內部垂直布局優(yōu)化熱回路
為最小化熱回路電感,推薦使用內部垂直布局:將高側與低側GaN FET并排放置在同一PCB層,高頻去耦電容(低ESR陶瓷電容)緊鄰FET源極與漏極布置。利用內層作為返回路徑,使其與頂層走線緊密耦合,形成小面積電流環(huán),顯著降低雜散電感。該結構使熱回路電感與板厚無關,且正反向電流磁場相互抵消,進一步抑制電感效應。
3. 熱回路電容布局優(yōu)化散熱
在降壓拓撲中,高側FET通常承受更高熱應力。建議將熱回路電容靠近低側FET放置,為高側FET留出更多銅箔空間用于散熱。VIN平面布置于FET下方內層。升壓拓撲則相反,電容應靠近高側FET,為低側FET散熱留出空間,返回地平面置于第二層。
4. 善用通孔降低電感與熱阻
在GaN FET焊盤上布置多個填充通孔,可有效降低寄生電感與熱阻。由于漏極與源極交錯,通孔中反向電流產生的磁場相互抵消,減少整體電感。同時,通孔將熱量傳導至多層PCB的銅平面,提升散熱能力。填充通孔可防止焊接時氣孔與焊料泄漏,增強可靠性。
5. 精細調節(jié)柵極電阻控制dv/dt
LT8418支持分離式柵極驅動,允許通過外接RG_ON與RG_OFF獨立調節(jié)導通與關斷擺率。合理選擇柵極電阻可抑制振鈴、優(yōu)化EMI并防止直通。建議從較高阻值(如3.3Ω)開始測試,在最大負載與最高輸入電壓下監(jiān)測柵極波形,逐步減小電阻直至效率與信號完整性達到平衡。圖2示顯示,1Ω電阻導致柵極過沖超限,而2Ω可實現干凈波形。
圖2示顯示,1Ω電阻導致柵極過沖超限,而2Ω可實現干凈波形。
6. 正確測試點布局避免誤判
使用短開爾文連接測量柵極信號,避免長引線引入寄生電感。測量底部柵極時,探頭接地彈簧應靠近FET GND。頂部柵極信號以開關節(jié)點為參考,需使用高速差分探頭,并推薦MMCX連接器以減少干擾。不當測試點會導致虛假振鈴,誤導設計判斷。
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